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证券之星消息，根据企查查数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种曝光检测方法及装置”，专利申请号为CN202111340307.2，授权日为2024年8月2日。

专利摘要：本公开实施例提供一种曝光检测方法及装置，所述曝光检测方法包括第一子步骤，第一子步骤包括：在显示基板母板的基底上依次形成第一导电层和第一光刻胶层，并对第一光刻胶层进行曝光，以形成第一图形，第一图形包括多个标记图形和对应于第一目标导电件的第一光刻胶图形，显示基板母板包括中间区域和环绕中间区域的周边区域，第一光刻胶图形位于中间区域，第一图形的标记图形位于中间区域与周边区域的交界处；对第一图形进行周边曝光处理，去除与周边区域在正投影方向重叠部分的第一图形；根据周边曝光处理后的第一图形的标记图形的图形特征，确定周边曝光处理是否异常。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2282个，较去年同期增加了39.23%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了113.2亿元，同比增1.97%。

数据来源：企查查

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